制程真空系统介绍

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制程真空系统介绍

真空系统的产生：
真空系统是指由各种真空元件（真空泵，零件，连接管道等）组合而成的用以得到
-定真空度的装置。而真空设备是指专门用来进行某种工作的真空系统及其附件。
半导体系统的真空是-种动态的系统，它需要真空pump不间断的工作以及良好的管
路才能运行。真空技术是在指定的空间内压力低于-个大气压的气体状态。目前所能达
到1100mTorr左右，高的分子泵可达大到0.10.001mTorr，但是1L中仍约残留100个气体
分子。
1. PV系统
2. Pumping-line/vent系统/Pumping-Exhaust系统
3.Exhaust系统