真空镀膜工艺（PVD）

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真空镀膜工艺（PVD）

ＰＶＤ是：Physical Vapor Deposition英文的缩写，中文意思是：物理气相沉积。主要意思是指在真空条件下，在真空状态下注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
 
ＰＶＤ镀膜技术主要分为：真空离子镀膜，真空溅射镀。我们经常说的ＰＶＤ镀膜就是指真空离子镀膜，近几年来，真空离子镀膜技术发展是最快的，它已经成为当今社会最先进的表面处理方式之一。ＰＶＤ镀出的膜层硬度高，耐磨性强，耐腐蚀性好，化学性稳定，而且膜层寿命长。
 
ＰＶＤ镀膜可以镀膜出的颜色种类：可镀IPG、IP紫色、IP玫瑰金色、IP钨钢色、IP铬色、IP咖啡色、IP红、IP钛色、IP蓝色及IP黑、枪色、ＩＰ灰等，可以通过控制镀膜过程的相关参数来控制镀出来的颜色，镀膜结束后可以用相关的仪器对镀膜出来的颜色进行检查，使颜色得到准确来满足客户要求。
 
PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。