施工组织设计（研发楼基础施工方案）

本资料包含doc文件1个，下载需要5积分

重庆西永软件园B-1/B-2（研发楼）项目位于重庆西永微电子工业园内，东至襄渝铁路，西至工业园科技-路，分别以科技大道南线和科技大道为南北界，本次建设的是B－1、B－2地块。其中地下-层，建筑面积11989m2，B－1地块地上九层，建筑面积23965m2，B－2地块地上九层，建筑面积7880m2。