紫外光刻光源设计与分析

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设计了一种应用于以数字微镜为核心器件的光刻系统中的紫外光刻光源。提出了设计过程中需要注意的散热、快门、位置调节等事项,并针对性的对光源进行了详细设计。

A UV lithography source has been designed for a lithography system with a digital micro-mirror device （DMD）. Heat dissipation, shutter and position adjustment are proposed and solved in the design of the UV lithography source.

紫外光刻光源，散热，快门，位置调节，UV lithography source，heat dissipation，shutter，position adjustment。

紫外光刻光源设计与分析。