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- XB/T 302-2019 高纯金属铽 (1.08MB)
- XB/T 302-2013 高纯金属铽 (3.12M)
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- GB/T 12968-1991 纯金属电阻率与剩余电阻比涡流衰减测量方法 (119.49K)
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- YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 (1.37M)
- GB/T 25934.3-2010 高纯金化学分析方法 第3部分:乙醚萃取分离ICP-AES法 测定杂质元素的含量 (4.02M)
- GB/T 25934.2-2010 高纯金化学分析方法 第2部分:ICP-MS-标准加入校正-内标法 测定杂质元素的含量 (6.39M)
- GB/T 25934.1-2010 高纯金化学分析方法 第1部分:乙酸乙脂萃取分离ICP-AES法 测定杂质元素的含量 (3.94M)
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